陽(yáng)極氧化線電解液中的主要有害雜質(zhì)及解決方法?
發(fā)表時(shí)間:2018-03-22 10:29:12
陽(yáng)極氧化線電解液中的主要有害雜質(zhì)及解決方法?
陽(yáng)極氧化線電解液中的主要有害雜質(zhì)有以下幾種:
1、鋁離子。電解液中鋁離子的過(guò)多積累會(huì)引起氧化膜層出現(xiàn)自斑或霧狀,但在通常情況下這種現(xiàn)象較為少見(jiàn),因?yàn)锳l3+與CrO42-化合會(huì)生成鉻酸鋁和堿式鉻酸鋁,沉入槽底。
2、三價(jià)鉻。在陽(yáng)極氧化過(guò)程中由于鋁的溶解,電解液中鉻酸鋁[Al2(Cr04)3]及堿式鉻酸鋁[A1(0H)2Cr04]含量不斷增加,三價(jià)鉻含量也會(huì)不斷增加。
三價(jià)鉻積累的另一原因是陰、陽(yáng)極面積搭配不當(dāng),陽(yáng)極面積過(guò)小、陰極面積過(guò)大、電解過(guò)程中陰極上的還原能力超過(guò)陽(yáng)極上的氧化能力。同時(shí),也與電解液中混入有機(jī)質(zhì)而引起六價(jià)鉻還原有關(guān)。三價(jià)鉻質(zhì)量濃度不可超過(guò)0.2g/L,超過(guò)此值時(shí)成膜速度會(huì)受到影響,膜層厚度降低,電解液的顏色也會(huì)由淺變深,由棕紅色變?yōu)樽睾谏?。氧化膜層暗淡無(wú)光,抗蝕能力明顯降低。
避免三價(jià)鉻的過(guò)快積累,要注意陰、陽(yáng)極面積比例,在正常情況下,陰、陽(yáng)極面積之比以1:(3~5)較為合適。因此,如果以槽體作為陰極,則對(duì)槽體應(yīng)采取部分屏蔽,以減少陰極陽(yáng)極面積之比,以阻止三價(jià)鉻的過(guò)快積累。
3、硫酸根。硫酸根主要由鉻酐中帶人,工業(yè)鉻酐通常含有0.4%左右的硫酸。硬水也是硫酸根來(lái)源之一,硬水中含有硫酸鈣、硫酸鎂等成分。故在工藝過(guò)程中盡可能用去離子水或蒸餾水配制。
陽(yáng)極氧化電解液隨著硫酸根濃度的不斷上升,六價(jià)鉻在陰極上還原為三價(jià)鉻的速度會(huì)加快,鉻酸消耗增加。此時(shí)有可能出現(xiàn)因硫酸根含量過(guò)高引起的透明膜層和三價(jià)鉻過(guò)高引起
4、中提到過(guò)的質(zhì)量影響。
為避免電解液中因硫酸根積累而影響氧化膜質(zhì)量,建議每次補(bǔ)充鉻酐時(shí)同時(shí)添加適量碳酸鋇或氫氧化鋇,使混入的硫酸根得以沉淀除去。
5、氯離子。氯離子主要來(lái)自自來(lái)水,尤其是汲取江、河水為水源的南方自來(lái)水中含有較多的漂白粉,氯離子含量相對(duì)較高。當(dāng)陽(yáng)極氧化電解液中氯離子濃度超過(guò)0.2g/L時(shí),對(duì)氧化膜層的質(zhì)量會(huì)產(chǎn)生影響,輕者出現(xiàn)粗糙,重者引起腐蝕。電流、電壓將會(huì)出現(xiàn)異狀,電流密度升高,電壓都上不去。
陽(yáng)極氧化線電解液中的主要有害雜質(zhì)有以下幾種:
1、鋁離子。電解液中鋁離子的過(guò)多積累會(huì)引起氧化膜層出現(xiàn)自斑或霧狀,但在通常情況下這種現(xiàn)象較為少見(jiàn),因?yàn)锳l3+與CrO42-化合會(huì)生成鉻酸鋁和堿式鉻酸鋁,沉入槽底。
2、三價(jià)鉻。在陽(yáng)極氧化過(guò)程中由于鋁的溶解,電解液中鉻酸鋁[Al2(Cr04)3]及堿式鉻酸鋁[A1(0H)2Cr04]含量不斷增加,三價(jià)鉻含量也會(huì)不斷增加。
三價(jià)鉻積累的另一原因是陰、陽(yáng)極面積搭配不當(dāng),陽(yáng)極面積過(guò)小、陰極面積過(guò)大、電解過(guò)程中陰極上的還原能力超過(guò)陽(yáng)極上的氧化能力。同時(shí),也與電解液中混入有機(jī)質(zhì)而引起六價(jià)鉻還原有關(guān)。三價(jià)鉻質(zhì)量濃度不可超過(guò)0.2g/L,超過(guò)此值時(shí)成膜速度會(huì)受到影響,膜層厚度降低,電解液的顏色也會(huì)由淺變深,由棕紅色變?yōu)樽睾谏?。氧化膜層暗淡無(wú)光,抗蝕能力明顯降低。
避免三價(jià)鉻的過(guò)快積累,要注意陰、陽(yáng)極面積比例,在正常情況下,陰、陽(yáng)極面積之比以1:(3~5)較為合適。因此,如果以槽體作為陰極,則對(duì)槽體應(yīng)采取部分屏蔽,以減少陰極陽(yáng)極面積之比,以阻止三價(jià)鉻的過(guò)快積累。
3、硫酸根。硫酸根主要由鉻酐中帶人,工業(yè)鉻酐通常含有0.4%左右的硫酸。硬水也是硫酸根來(lái)源之一,硬水中含有硫酸鈣、硫酸鎂等成分。故在工藝過(guò)程中盡可能用去離子水或蒸餾水配制。
陽(yáng)極氧化電解液隨著硫酸根濃度的不斷上升,六價(jià)鉻在陰極上還原為三價(jià)鉻的速度會(huì)加快,鉻酸消耗增加。此時(shí)有可能出現(xiàn)因硫酸根含量過(guò)高引起的透明膜層和三價(jià)鉻過(guò)高引起
4、中提到過(guò)的質(zhì)量影響。
為避免電解液中因硫酸根積累而影響氧化膜質(zhì)量,建議每次補(bǔ)充鉻酐時(shí)同時(shí)添加適量碳酸鋇或氫氧化鋇,使混入的硫酸根得以沉淀除去。
5、氯離子。氯離子主要來(lái)自自來(lái)水,尤其是汲取江、河水為水源的南方自來(lái)水中含有較多的漂白粉,氯離子含量相對(duì)較高。當(dāng)陽(yáng)極氧化電解液中氯離子濃度超過(guò)0.2g/L時(shí),對(duì)氧化膜層的質(zhì)量會(huì)產(chǎn)生影響,輕者出現(xiàn)粗糙,重者引起腐蝕。電流、電壓將會(huì)出現(xiàn)異狀,電流密度升高,電壓都上不去。
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